(8分)三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它能发生如下反应:3NF3+5H2O===2NO+HNO3+9HF。请回答下列问题:⑴NF3中氮元素的化合价为;⑵NF3的大于HNO3(填

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(8分)三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它能发生如下反应:3NF3+5H2O===2NO+HNO3+9HF。请回答下列问题:⑴NF3中氮元素的化合价为;⑵NF3的大于HNO3(填

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(8分) 三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它能发生如下反应:3NF3+5H2O===2NO+HNO3+9HF。请回答下列问题:
⑴NF3中氮元素的化合价为       
⑵NF3        大于HNO3(填氧化性或还原性);
⑶在上述反应中还原剂与氧化剂的物质的量之比为         
⑷若生成0.2 mol HNO3,则转移的电子数为       
题型:填空题难度:中档来源:不详

答案

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